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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
實(shí)驗室氫化釜是一種專(zhuān)門(mén)用于實(shí)驗室環(huán)境下進(jìn)行氫化反應的設備。氫化反應是一種常見(jiàn)的有機化學(xué)反應，其中氫氣（H?）與有機化合物反應，通常是在催化劑的作用下進(jìn)行。氫化反應廣泛應用于化工、制藥、食品和精細化學(xué)品的合成中，用于小規模、高精度的氫化實(shí)驗。
產(chǎn)品分類(lèi)
實(shí)驗室氫化釜是一種專(zhuān)門(mén)用于實(shí)驗室環(huán)境下進(jìn)行氫化反應的設備。氫化反應是一種常見(jiàn)的有機化學(xué)反應，其中氫氣（H?）與有機化合物反應，通常是在催化劑的作用下進(jìn)行。氫化反應廣泛應用于化工、制藥、食品和精細化學(xué)品的合成中，用于小規模、高精度的氫化實(shí)驗。
工作原理類(lèi)似于一般的反應釜，但有一些特殊的設計，以適應氫化反應的需要。氫化反應通常需要在高壓條件下進(jìn)行，氫氣作為反應物與有機化合物在催化劑的作用下反應。通過(guò)以下方式進(jìn)行控制：
1.反應氣體的引入：氫化釜通過(guò)專(zhuān)門(mén)的氫氣供氣系統向釜內引入氫氣。氫氣通過(guò)控制閥門(mén)調節流量和壓力，確保反應過(guò)程中的氫氣濃度適當。
2.催化劑作用：氫化釜中通常會(huì )加入催化劑（如鉑、鈀、鎳等），催化劑能夠加速氫化反應。催化劑在反應中不起變化，主要起到提供反應表面、降低反應活化能的作用。
3.高壓與高溫條件：氫化反應通常在較高的溫度和壓力下進(jìn)行。氫化釜通過(guò)加熱裝置（如電加熱或油浴加熱）提高溫度，并通過(guò)密封的結構保持一定的壓力。為了加快反應速率，通常需要較高的溫度和壓力。
4.攪拌與混合：氫化反應中，反應物的均勻混合是非常重要的。通常配備了攪拌裝置，幫助氫氣和有機化合物的接觸，促進(jìn)反應的順利進(jìn)行。
5.溫度與壓力控制：氫化釜的操作條件需要嚴格控制。通常，氫化釜配備了溫度和壓力監控系統，確保反應過(guò)程中這些參數維持在預設范圍內。高壓氫氣的存儲與釋放需要精確管理，以保證安全和高效的反應。
實(shí)驗室氫化釜的結構特點(diǎn)：
1.釜體：氫化釜的釜體通常由耐高壓材料（如不銹鋼）制成，能夠承受反應過(guò)程中產(chǎn)生的高溫高壓環(huán)境。
2.進(jìn)氣系統：包括氫氣的輸入管道和控制閥門(mén)，通過(guò)這些系統將氫氣引入反應釜內。氫氣供應系統通常帶有壓力表和流量計，用于監控氫氣的流量和壓力。
3.攪拌裝置：攪拌器通常安裝在反應釜內部，幫助促進(jìn)反應物和氫氣的混合。攪拌裝置一般為電動(dòng)，能夠調節轉速，以適應不同的反應條件。
4.溫度控制系統：氫化反應需要特定的溫度，一般配備溫度傳感器和加熱/冷卻裝置。溫控系統通過(guò)調節釜內的溫度，確保反應在理想條件下進(jìn)行。
5.壓力控制系統：氫化釜內的壓力需要通過(guò)壓力傳感器和壓力調節閥進(jìn)行監控和調節。壓力過(guò)高時(shí)，系統會(huì )自動(dòng)泄壓，以保證安全。
6.催化劑支持裝置：氫化釜內通常會(huì )有專(zhuān)門(mén)的裝置用于支撐催化劑，如催化劑載體（例如鈀或鉑的金屬網(wǎng)或顆粒）。有些氫化釜設計有專(zhuān)門(mén)的催化劑反應床，確保催化劑在反應過(guò)程中不被污染或失效。
7.安全裝置：由于氫氣是一種易燃氣體，實(shí)驗室氫化釜通常配備了多種安全裝置，如壓力安全閥、泄壓閥、溫度過(guò)載保護等，以防止反應釜發(fā)生過(guò)壓或過(guò)熱等危險。
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指標
項目
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公稱(chēng)容積 L
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0.1
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0.25
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1
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2
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3
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5
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10
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20
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25
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工作壓力 Mpa
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-0.1-9.8Mpa；可選用：-0.1-25.0 Mpa；
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工作溫度 ℃
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室溫-300℃；可選用：-20 - +450℃；
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加熱方式
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電爐絲電加熱；
可選配：夾套導熱油電加熱管加熱，夾套油、水、水蒸汽循環(huán)加熱，防爆鑄銅，鑄鋁加熱器；
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加熱功率 KW
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0.8
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1
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1.5
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2
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4
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6
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9
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12
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攪拌轉速 r/min
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20～1000r/min 可調
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攪拌槳葉形式
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推進(jìn)式；可選配：槳式、錨式、渦輪式；
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電機功率 w
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92
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123
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185
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245
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355
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600
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750
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750
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釜蓋開(kāi)口
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攪拌口配磁力攪拌器，氣相口配針形閥(進(jìn)、排氣、抽真空用)，液相口配針形閥及釜內插底管(反應過(guò)程中可用來(lái)取樣或上出料用)，加料口配絲堵，測控溫口配保護管及鉑電阻，壓力表安全爆破口配壓力表及安全防爆裝置，釜內冷卻盤(pán)管進(jìn)、出口配水咀。注明：0.1~0.25L無(wú)內冷卻盤(pán)管，0.1~0.5L無(wú)固體加料口。
開(kāi)口可選配：釜底放料口配閥門(mén)，氣體取樣口配閥門(mén)及取樣器系統，液體取樣口配閥門(mén)及取樣器系統，進(jìn)出口匹配單向閥，氣體進(jìn)口配減壓閥，氣體出口配背壓閥，釜體釜蓋匹配觀(guān)察玻璃視窗，釜體液位計。
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控制系統
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配具有自整定功能PID控溫表，控溫精度±1.5℃，具有釜內轉速顯示及無(wú)級調速功能，具加熱電壓可調功能，配有加熱電壓表、電機電流表、工作時(shí)間顯示表。
可選用連續操作控制系統：氣體增壓系統，液體加料系統，恒壓加料罐，接收及冷凝裝置，高壓分離裝置，質(zhì)量流量控制系統，自動(dòng)冷卻系統，壓力傳感器超壓報警，超溫報警斷電，計算機遠程控制、數據采集等。
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主體材料
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1Cr18Ni9Ti ( 321 )、00Cr17Ni14MO 2 ( 316L )、 0Cr18Ni9 ( 304 )
可選用鎳、鎳基合金(哈氏合金、蒙乃爾合金、因康鎳合金)、鈦、銅、鋯、鉭、鋁及其合金、雙相不銹鋼、聚四氟乙烯等
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控制儀的工作環(huán)境
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環(huán)境溫度 0～50 ℃，相對濕度為 30～85% ，周?chē)橘|(zhì)中不含導電塵埃及腐蝕氣體。
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